μMLA 桌面式无掩膜光刻机
μMLA 依托全球主流的μPG平台开发，是一款定位研发与快速原型的高端台式无掩模光刻系统，具备无需掩模、高精度、易用稳定等特点，是科研与小批量原型加工的标准入门级装备。 μMLA目前已经被海德堡仪器(Heidelberg Instruments)广泛用于MEMS、微流控、微光学、传感器、二维材料等领域，是纳米加工实验室、科研机构与工业界高性价比、多用户通用的微结构加工设备。
2,000,000.000 (CNY)
Heidelberg Instruments
Heidelberg Instruments（海德堡仪器，简称 HI）是德国高端微纳制造设备商，全球无掩模激光光刻与纳米加工领域的龙头企业，专注为科研与工业提供高精度光刻、直写及纳米制造解决方案。
DWL66+ 多功能激光直写光刻机
DWL 66+ 兼具超强多功能性、专业级灰度光刻能力，拥有市场直写激光系统中最高分辨率，专为MEMS、微电子、微流体、光学、光子学、量子设备等领域研发与快速原型设计打造，适配各类微结构制备需求。 DWL 66+目前已经被海德堡仪器(Heidelberg Instruments)广泛用于高精度、多功能微纳结构制备，面向研发与小规模掩模制作，是全球高校、科研机构与企业广泛使用的微纳加工核心设备。
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