化学气相沉积设备

化学气相沉积（CVD）技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。典型的CVD工艺过程是把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成所需薄膜的一种方法。由于CVD技术具有成膜范围广、重现性好等优点，被广泛用于多种不同形态的成膜。