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SS-OCT（扫频光源 - OCT）法 波长扫频光源对波长进行暂时扫频，并将其输出光照射到样品上，然后用差分探测器检测所产生的干涉光。通过对获得的波长信息进行傅里叶变换，获得样品深度方向的图像。

SD-OCT（光谱域 - OCT）法 来自宽带波长光源的光照射到样品上，干涉光光谱发散，然后被线阵图像传感器检测到。通过对获得的波长信息进行傅里叶变换，获得样品深度方向的图像。

OCT 是一种使用光的相干性在光行进方向上测量距离的技术。近红外光照射到样品上，并且由样品散射和反射回来的光与穿过 OCT 装置内部的固定光路的参考光结合。通过检测以此方式产生的光干涉信号，获得在深度方向上的一维信号。可以通过连续扫描样品上的光入射位置来获得层析图像。

设备名称 功能描述 接触式光刻机 对光刻胶进行紫外曝光、标记对刻套刻、支持双面套刻 光学镀膜机台 沉积激光器端面增透、反镀膜/光学元件的光学膜 电子束光刻系统 支持2/4/6/8英寸晶元及散片，最小线宽8nm PEVCD 介质膜的沉积（SiOx，SiNx） RIE 介质膜的刻蚀（SiOx，SiNx） ICP Si、III-V族材料、铌酸锂等的刻蚀 解理机 III-V材料晶圆的划片与裂片 磁控溅射镀膜仪 致密金属膜沉积 电子束蒸发台 金属膜沉积、电极制作 设备名称 功能描述 双束电镜 微观表面及纵深结构的高精密表征、元素成分测量、芯片失效分析、TEM样品制备、超构材料器件制备 快速退火炉 高温退火处理 等离子清洗机 样品表面有机物清洗、去胶 减薄抛光机 晶圆厚度的减薄及表面平平滑抛光 高倍数码显微镜 光学显微、表面表征 台阶仪 表征台阶结构垂直高度 膜厚仪 表征薄膜厚度 三维轮廓仪 检测晶圆表面平滑度 半自动贴片机 高精度芯片对准贴装

在太阳能电池性能的检测与维护中，探针作为测试机的核心部件，扮演着举足轻重的角色。本文将详细阐述太阳能电池测试机探针的种类、使用方法以及工作原理，旨在帮助读者更好地理解和应用这一关键技术。

少子寿命测试仪

1.是否需要2D或者3D 相机辅助探针定位？ 有相机可以自动定位和下针节约大量的工程师时间，我们的90%客户会选择包含相机的定位的功能 2.要测的栅线间距多少？ 我们提供的探头范围如下 低于1.0mm按客户要求定制固定间距探头。其它范围间距探头如下： 1.0-1.2mm 1.2-1.8mm 1.8-2.4mm 2.4-3.0mm 3.是否需要四探针功能？ 如果客户已经有四探针了，我们一般不建议客户购买，用四探针功能需要更换探头和测试台，大概需要15分钟时间。另外需要增加8000欧元的成本。

半导体可靠性测试中使用的TLM（传输线测量）法，是一种专门用于精确表征和监控金属电极与半导体材料之间“欧姆接触”质量的关键技术。它的核心是通过测量一组不同间距的接触电阻，来分离并计算出“接触电阻”和半导体材料的“方块电阻”，从而判断接触性能是否退化。 这对于可靠性测试至关重要，因为欧姆接触的劣化（如金属扩散、界面反应）是器件长期失效的主要原因之一。

客户有一台二手 CDE 178闲置 状态良好 ResMap Four Point Probe Manual load “baby” Wafer size: 2”-8” Manual load Max round sample: 8.2” φ , Max square sample:5.8”x5.8” Maximum throughput: 1min/wafer, (49pints) MeasurementRange - 1m to 10M Accuracy 0.5% 0.02% static, 0.1% dynamic Measurement unit size: 12”W x 10”H x 18”D Full functional unit Included: Measurement unit, computer, Keyboard/mouse,monitor. OEM 代工型號說明 The CDE ResMap 178 is a precision instrument for measuring the sheet resistivity of a conductive media (metal and semiconductor applications). It is a table top model with manual wafer load and can measure wafer sizes from 2” to 8”. It has become an industry standard for cost effective resistivity measurement. The CDE ResMap 178 has an accuracy of 0.5% and a repeatability of 0.02% static and 0.1% dynamic. The CDE ResMap 178 has a resistivity range of 2mOhm/Square to 5MOhm/square. The CDE ResMap 178 has a maximum throughput of 1 minute per wafer (49 sites).

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