椭偏仪（Ellipsometer）

多角度激光椭偏仪SE 400adv PV在632.8nm的氦氖激光波长下，在纹理化的单晶和多晶硅片上提供防反射单膜的膜厚和折射率。可更换的晶片载片器允许对多晶晶片和碱性织构的单晶晶片进行测量。 激光椭偏仪SE 400adv PV特别适用于分析SiNx、ITO、TiO2薄膜以及SiO2和Al2O3薄膜钝化层。双层堆叠膜可以在光滑的基板上进行分析。 SE 400adv PV是一种紧凑的仪器，快速上升和运行。SENTECH简单易用，基于配方的软件包括符合研发和生产环境质量控制要求的预定义应用程序的综合包。 一种用于光伏应用的便携式激光椭偏仪可用于在整个生产线运行之前，建立和测试大型PECVD设备

光谱椭偏仪SE 800 PV是分析结晶和多晶硅太阳能电池防反射膜的理想工具。可以测量单层薄膜(SiNx、SiO2、TiO2、Al2O3)和多层叠层膜(SiNX/SiO2、SiNx1/SiNx2、SiNx/Al2O3)

日本Photonic Lattice, Inc.基于自研的光子晶体技术开发的一款高速膜厚测量仪ME-210，与传统点测的椭偏仪不同，ME-210通过点扫描的方式可以快速的得到整面的膜厚信息，每分钟可取得1000个点的膜厚数据，6寸晶圆3分钟可取得整面的膜厚mapping，重复测量精度0.1nm，透明基板也可测量。