Microlab 科研型多功能直写光刻系统 Microlab 科研型多功能直写光刻系统 Call for pricing Qty: Add to cart Custom wishlist OK Add to wishlist Add to compare list Email a friend Microlab 科研型多功能直写光刻系统 技术特点 可选配光源:405nmLED、405nmLD、355nmDPSSL 支持4-8英寸幅面基板 高刷新空间光调制无掩模直写 自动聚焦 3D形貌曝光、干涉曝光、偏振曝光 多模式曝光(扫描式曝光、步进式曝光) 多任务模式自动运行 GDSII、BMP、STL等文件格式支持 规格参数 * 参数取决于选配工件台幅面 * 具体指标因工艺差异有所不同 应用示例
