高速椭偏仪ME-210

日本Photonic Lattice, Inc.基于自研的光子晶体技术开发的一款高速膜厚测量仪ME-210，与传统点测的椭偏仪不同，ME-210通过点扫描的方式可以快速的得到整面的膜厚信息，每分钟可取得1000个点的膜厚数据，6寸晶圆3分钟可取得整面的膜厚mapping，重复测量精度0.1nm，透明基板也可测量。

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产品说明

常规椭偏仪是单点测试，因此要取得整面膜厚均匀性数据是需要N个小时的工作，而且小的测量分辨率就是激光光斑大小，

无法取得微小区域的膜厚分布数据。

ME-210是采用独自开发的微小偏光阵列片（光子晶体）来克服上述两大问题的设备。

产品特点

能以快速取得大12inch基板上的膜厚分布

能以高分辨率取得微小区域的膜厚分布（设备高分辨率为5.5um*5.5um）

设备软件具有模拟功能，因此能比对模拟值与实际值来评估成膜工艺

透明基板的膜厚测量

规格参数

重复精度	薄膜厚度：0.1nm 折射率：0.001 *Si 上的 SiO2 膜（厚度约 100nm）的一点重复测量 100 次时的标准偏差值
测量速度	900 点/分钟以上（广域模式 100mm 方形区域测量） 5000 点/分钟或以上（高清模式 1mm 方形区域测量）
光源	半导体激光器（波长 636nm）
测量点	广域模式：0.5mm 高清模式：5.5μm
入射角度	70 度