Nanocrystal 大幅面纳米光刻 Nanocrystal 大幅面纳米光刻 电话报价 数量: 加入购物车 wishlist.addcustomwishlist 完成 加入收藏夹 商品比较 邮件给朋友 Nanocrystal 大幅面纳米光刻 技术特点 Nanocrystal是专门为纳米光学结构制备而设计的无掩模光刻系统，配置了可连续变空频的位相干涉系统，实现亚波长光学结构的亚纳米调控精度制备。 该光刻系统采用355nm紫外光源、大数值孔径（NA=0.9）干涉光学系统、百微米像素视场范围，满足150nm-5μm范围微纳光学结构制备，配置3D导航聚焦、飞行高速曝光模式，是大幅面亚波长结构制备的优秀手段。可应用于光子晶体、衍射光学器件、光场调控显示、光学超表面等研究和器件制备。 规格参数 * 具体指标因工艺差异有所不同 应用示例
