Microlab 科研型多功能直写光刻系统

技术特点

• 可选配光源:405nmLED、405nmLD、355nmDPSSL
• 支持4-8英寸幅面基板
• 高刷新空间光调制无掩模直写
• 自动聚焦
• 3D形貌曝光、干涉曝光、偏振曝光
• 多模式曝光(扫描式曝光、步进式曝光)
• 多任务模式自动运行
• GDSII、BMP、STL等文件格式支持

规格参数

* 参数取决于选配工件台幅面       * 具体指标因工艺差异有所不同

应用示例