GP120石墨纯化炉高纯石墨主要应用于半导体等对石墨杂质要求非常苛刻的领域,北方华创真空研发采用化学净化法,在高温下,利用化学气体对石墨进行净化的设备与工艺,纯化后的石墨总灰分可达到5ppm。 0.000 (CNY) 数量: 加入购物车 wishlist.addcustomwishlist 完成加入收藏夹商品比较邮件给朋友GP120 石墨纯化炉GP120 Graphite purification furnace高纯石墨主要应用于半导体等对石墨杂质要求非常苛刻的领域,北方华创真空研发采用化学净化法,在高温下,利用化学气体对石墨进行净化的设备与工艺,纯化后的石墨总灰分可达到5ppm。设备特点稳定的超高温结构行业内较低的能耗控制技术完备的净化气体解决方案精准的气体与流场控制技术指标工作温度2400℃工艺气体卤素气体温度均匀性≤±5℃冷态极限真空度5Pa